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Couloscope CMS2 STEP鍍層測(cè)厚儀（破壞性）
| 更新時(shí)間： | 2024-09-24 |
| 報(bào) 價(jià)： |  |
Couloscope CMS2 STEP鍍層測(cè)厚儀（破壞性）作為測(cè)量鍍層厚度Z簡(jiǎn)單的方法之一，庫(kù)侖法可以用于 各種鍍層組合。 尤其對(duì)于多鍍層結(jié)構(gòu)， 當(dāng)允許破壞性測(cè) 量時(shí)，它提供了一個(gè)比 X 射線更經(jīng)濟(jì)的替代方法。 很多常見(jiàn)的單、雙鍍層例如鐵鍍鋅或者銅鍍鎳鍍錫都可 以用 CMS2 簡(jiǎn)單快速地測(cè)量。這個(gè)方法為任何金屬鍍層 提供了的測(cè)量。在厚度范圍 0.05 - 50 μm 內(nèi)， 很多 材料不需
Couloscope CMS2 STEP鍍層測(cè)厚儀（破壞性）的詳細(xì)資料：
| 品牌 | Helmut Fischer/德國(guó)菲希爾 |
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Couloscope CMS2 STEP鍍層測(cè)厚儀（破壞性）
作為測(cè)量鍍層厚度zui簡(jiǎn)單的方法之一，庫(kù)侖法可以用于 各種鍍層組合。 尤其對(duì)于多鍍層結(jié)構(gòu)， 當(dāng)允許破壞性測(cè) 量時(shí)，它提供了一個(gè)比 X 射線更經(jīng)濟(jì)的替代方法。 很多常見(jiàn)的單、雙鍍層例如鐵鍍鋅或者銅鍍鎳鍍錫都可 以用 CMS2 簡(jiǎn)單快速地測(cè)量。這個(gè)方法為任何金屬鍍層 提供了的測(cè)量。在厚度范圍 0.05 - 50 μm 內(nèi)， 很多 材料不需要預(yù)設(shè)定；基材組成和幾何形狀對(duì)于測(cè)量都 是無(wú)關(guān)緊要的。
測(cè)量槽------可比作微型電解缸------被用來(lái)剝離鍍層。 測(cè)量 面積由裝在測(cè)量槽上的墊圈尺寸來(lái)決定。對(duì)不同的金屬 采用不同配方的電解液。通過(guò)載入電流開(kāi)始電解過(guò)程。 電解過(guò)程由 COULSCOPE 儀器的電子部分控制， 用一 個(gè)泵攪拌電解液來(lái)使電解區(qū)域電解液平穩(wěn)腐蝕，保證電 解液*利用。 根據(jù)測(cè)量區(qū)域的大小，各種直徑的墊圈 可供選擇。
測(cè)量印刷線路板上剩余純錫的厚度 :
zui常見(jiàn)的應(yīng)用之一就是測(cè)量線路板上剩余的純錫，以確 保可焊性。多鍍層例如 Cr/ Ni/Cu 在鐵或者塑料（ABS） 基材上，經(jīng)常被用于高品質(zhì)的浴室用品，也可以用這個(gè) 方法進(jìn)行測(cè)量
特性：
測(cè)量原理 ： 這個(gè)系列儀器根據(jù) DIN EN ISO 2177 標(biāo)準(zhǔn)的庫(kù)侖法。 金屬或非金屬基材上的金屬鍍層，通過(guò)在控制電流條件 下電解腐蝕--------實(shí)際上就是電鍍的反過(guò)程。所載入的電 流與要?jiǎng)冸x的鍍層厚度是成正比的，假如電流和剝離面 積保持不變，鍍層厚度與電解時(shí)間就是成正比的關(guān)系。 下面的公式適用于通過(guò)庫(kù)侖法電解腐蝕確定鍍層厚度： d: A: 電解面積 [cm2] ρ: 電解鍍層材料密度 [g/cm3] |
COULOSCOPE CMS基本配置： 儀器： Couloscope CMS | |||||
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